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气氛炉的简介
博纳热双温区管式炉的每个温区可实现单独控温，为材料处理提供了灵活的温度调节空间，主要适用于在真空或保护气氛环境中，完成多种温度段下材料的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺，以及碳纳米管、硅纳米线的制备等精细操作。
除双温区型号外，博纳热还提供三温区、五温区等多种规格的管式炉，并支持根据客户具体需求进行定制，是高校、科研院所、工矿企业开展粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理及质量检测的理想设备。
设备特点
1、高温选择
多温区管式炉能够满足不同温度和场景需求，能在 1600℃内稳定工作，加热元件则有电阻丝、硅碳棒、硅钼棒三种，可根据炉管类型和温度需求灵活搭配。
2、真空环境
多温区真空管式炉支持定制不同规格的真空密封法兰，法兰上预装机械压力表和不锈钢截止阀，通过精准的真空控制，能够实现高真空、低真空、无真空等多种实验与生产环境，满足材料在不同真空条件下的处理需求，保障实验数据的准确性和生产的稳定性。
3、通气系统
针对不同客户的工艺要求，双温区管式炉可设置多个气氛通气口，支持通入氮气、氩气、二氧化碳、氢气等多种气体，既能构建惰性保护气氛，也能满足特殊反应气氛的需求，为材料处理提供多样化的环境选择，拓展了设备的应用范围。
4、智能控制
高温管式炉的控制系统采用高精度可控硅移相触发技术，控温精度可达 ±1℃，确保每个温区的温度稳定，操作人员可根据工艺需求预设升温、保温、降温曲线，实现自动化控温，减少人工干预，提升了工艺的重复性和可靠性。
总结
无论是高校科研中的新材料探索、实验室的工艺优化，还是企业的小批量生产，这款双温区管式炉都能通过精准的温度控制和环境调节，满足不同材料的处理需求，博纳热以客户需求为导向的定制化服务，进一步提升了设备的实用性，随着材料科学的不断发展，博纳热多温区管式炉将继续为材料研究与产业升级提供稳定可靠的设备支持。
