气氛炉的简介
箱式气氛炉是通过预抽真空的方式,将炉膛内的空气尽可能排出,使氧含量降到最低,随后通入氮气、氩气等惰性气体,从而构建起稳定的气氛保护环境,为材料热处理提供理想条件,让材料在热处理过程中有效避免了氧化、污染等问题,保障了处理后材料的性能与纯度,是材料实验室开展各类材料性能研究、工艺探索的重要设备,为科研人员提供了可靠的实验设备。
设备特点
1、炉膛材料
气氛箱式炉的炉膛采用高品质氧化铝多晶纤维材料构建,这种材料不仅具有良好的保温性能,还能保证炉膛内的温场均匀,且在高温环境下不会产生污染,为材料热处理提供了洁净的空间,温度适用范围广泛,可从室温(RT)达到 1700℃,能够满足不同材料在不同温度条件下的热处理需求。
2、结构坚固
真空气氛炉的炉膛采用全密闭结构设计,壳体选用双层加厚钢板打造,炉膛在抽真空过程中能够保持稳定形态,不易变形,极限真空可达 - 0.1Mpa,最大抽真空度可到 - 0.08MPa,强大的真空能力为惰性气体置换和低氧环境构建奠定了坚实基础。
3、精密控温
控温系统配备工业精度 0.2 级的智能仪表,采用 PID 调节方式,使得高温气氛炉能够精准控制炉膛内的温度,有效避免温度波动对材料处理效果的影响,同时支持 50 段编程功能,操作人员可根据不同的热处理工艺需求,预先设定升温、保温、降温等流程,实现自动化控温,大大提高了操作的灵活性和精准度。
4、环境稳定
气氛炉的炉门采用四个手轮紧锁的方式,并搭配硅胶圈密封,确保了炉门的密封性能,仅能有效维持炉膛内的真空状态和惰性气体氛围,防止外界空气渗入对热处理过程造成干扰,还能减少能量损耗,提升设备的运行效率。
总结
箱式气氛炉无论是在材料实验室的科研探索中,还是在半导体、氮化硅等产品的小批量生产里,箱式气氛炉都凭借卓越的表现,为提升材料性能、保障产品质量提供了有力支持,成为精密热处理领域的理想之选。